上海先进半导体制造有限公司
企业简介

上海先进半导体制造有限公司 main business: and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.

welcome new and old customers to visit our company guidance, my company specific address is: 上海 上海市闵行区 上海市嘉定区清河路390号.

If you are interested in our products or have any questions, you can give us a message, or contact us directly, we will receive your information, will be the first time in a timely manner contact with you.

上海先进半导体制造有限公司的专利信息
序号 公布号 发明名称 公布日期 摘要
1 CN100367477C 双层布线双极型器件制造工艺 2008.02.06 本发明公开了一种双层布线双极型器件制造工艺,其中进行基区推进时温度为950℃~1000℃,基区推进的
2 CN100343978C 制造双层多晶硅存储器元件的方法 2007.10.17 本发明提供一种制造双层多晶硅一次性可编程(OTP)存储器的方法,包括以下步骤:在硅衬底上用常规的硅局
3 CN100483690C 制造双层多晶硅可改写非易失性存储器的方法 2009.04.29 本发明提供一种制造双层多晶硅可改写非易失性存储器的方法,包括以下步骤:形成低、高压MOS器件的N阱和
4 CN100349284C 0.8微米硅双极互补金属氧化物半导体集成电路制造工艺 2007.11.14 本发明公开了一种改进的0.8微米BICMOS集成电路制造工艺,在N阱中形成深P型阱,具体包括如下的步
5 CN1309044C 有DP阱的BiMOS数模混合集成电路及其制造方法 2007.04.04 一种有DP阱的BiMOS数模混合集成电路的制造方法,在用CMOS工艺在P型衬底上制作N阱和P阱后在N
6 CN1746878A 计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法 2006.03.15 本发明公开了一种计算机模拟光刻工艺的参数拟合方法,包括如下步骤:计算并拟合能量阀值的模拟参数,包括使
7 CN1734748A 0.8微米硅双极互补金属氧化物半导体集成电路制造工艺 2006.02.15 本发明公开了一种改进的0.8微米BICMOS集成电路制造工艺,在N阱中形成DP阱,具体包括如下的步骤
8 CN1719595A 制造双层多晶硅可改写非挥发性存储器的方法 2006.01.11 本发明提供一种制造双层多晶硅可改写非挥发性存储器的方法,包括以下步骤:形成低、高压MOS器件的N阱和
9 CN1713370A 制造双层多晶硅存储器元件的方法 2005.12.28 本发明提供一种制造双层多晶硅OTP存储器的方法,包括以下步骤:在硅衬底上用常规的LOCOS氧化隔离法
10 CN1697137A 半导体工艺中淀积铝填充亚微米孔的方法 2005.11.16 本发明公开了一种半导体工艺中淀积铝填充亚微米孔的方法,采用物理气相淀积金属铝的方法,其中,淀积的过程
11 CN1697145A 改进的双层布线双极型器件制造工艺 2005.11.16 本发明公开了一种双层布线双极型器件制造工艺,其中进行基区推进时温度为950℃~1000℃,基区推进的
12 CN1549330A 有DP阱的BiMOS数模混合集成电路及其制造方法 2004.11.24 一种有DP阱的BiMOS数模混合集成电路的制造方法,在用CMOS工艺在P型衬底上制作N阱和P阱后在N
新闻中心
该公司还没有发布任何新闻
行业动态
该公司还没有发表行业动态
企业资质
该公司还没有上传企业资质
Map(The red dot in the figure below is 上海先进半导体制造有限公司 at the specific location, the map can drag, double zoom)
Tips: This site is 上海先进半导体制造有限公司 at mass public network free website, if you are the person in charge of the unit, please click here application personalized two after landing and update your business domain data, you can delete all of your unit page ads, all operations free of charge.